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• 光源：
  • 光譜橢偏儀通常使用寬帶光源，這意味著它可以產(chǎn)生一系列不同波長(zhǎng)的光。
    
• 偏振器：
  • 非偏振光通過(guò)第一個(gè)偏振器（起偏器），變成線性偏振光。
    
• 偏振態(tài)轉(zhuǎn)換：
  • 線性偏振光進(jìn)一步通過(guò)一個(gè)偏振態(tài)轉(zhuǎn)換器（如四分之一波片），將其轉(zhuǎn)換為橢圓偏振光。
    
• 樣品反射：
  • 橢圓偏振光照射到樣品表面。樣品通常是一層或多層薄膜覆蓋在基底上。
  • 光在薄膜上下表面反射時(shí)，其偏振態(tài)會(huì)發(fā)生變化，這些變化包含了薄膜的光學(xué)性質(zhì)信息。
    
• 檢偏器：
  • 反射回來(lái)的光通過(guò)第二個(gè)偏振器（檢偏器）。檢偏器的角度可以調(diào)整，以測(cè)量不同偏振態(tài)的光強(qiáng)度。
    
• 檢測(cè)器：
  • 經(jīng)過(guò)檢偏器的光被送入檢測(cè)器，通常是光電二極管陣列或CCD相機(jī)，用于記錄不同波長(zhǎng)下光的強(qiáng)度。
    
• 數(shù)據(jù)處理：
  • 記錄下來(lái)的強(qiáng)度數(shù)據(jù)通過(guò)軟件進(jìn)行分析處理。
  • 使用適當(dāng)?shù)哪Ｐ停ㄍǔＪ腔诜颇剑﹣?lái)擬合數(shù)據(jù)，從而得出薄膜的光學(xué)性質(zhì)。
    
  
  

• 當(dāng)光線從一種介質(zhì)入射到另一種介質(zhì)時(shí)，反射光的偏振態(tài)可以用兩個(gè)參數(shù)來(lái)描述：振幅衰減比（ψ）和相位差（Δ）。
• 這些參數(shù)可以通過(guò)測(cè)量P偏振態(tài)（平行于入射面的偏振態(tài)）和S偏振態(tài)（垂直于入射面的偏振態(tài)）的反射系數(shù)來(lái)獲得。
• P偏振態(tài)和S偏振態(tài)的反射系數(shù)分別用復(fù)數(shù)形式的rp和rs表示，它們與材料的光學(xué)性質(zhì)有關(guān)。
  

• 光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、材料科學(xué)、生物**領(lǐng)域等，用于精確測(cè)量薄膜的厚度、折射率、消光系數(shù)等。