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標(biāo)題: 橢偏法測量薄膜厚度的原理 [打印本頁]
作者: 合凈機械    時間: 2024-12-3 16:26
標(biāo)題: 橢偏法測量薄膜厚度的原理
橢偏法（Ellipsometry）是一種光學(xué)測量技術(shù)，主要用于測量薄膜的厚度、折射率以及其他光學(xué)特性。其基本原理基于偏振光與薄膜表面相互作用的變化。  
具體來說，橢偏法利用一束已知偏振狀態(tài)的光（通常是線偏振光）以一定入射角射到薄膜表面。這束光會在薄膜的各個界面發(fā)生多次反射和折射，導(dǎo)致光的偏振狀態(tài)發(fā)生變化。通過測量反射光的偏振狀態(tài)變化，可以推斷出薄膜的厚度和折射率。  
橢偏法的核心在于分析光的偏振狀態(tài)變化。入射光經(jīng)過薄膜反射后會變成橢圓偏振光，這種變化與薄膜的厚度和折射率密切相關(guān)。通過測量橢圓偏振光的參數(shù)（如振幅比和相位差），可以建立數(shù)學(xué)模型，擬合出薄膜的厚度和折射率。

作者: Hamburger    時間: 2024-12-5 04:33
您的經(jīng)驗分享對于像我這樣的新手來說太寶貴了，謝謝！
作者: 優(yōu)勢在我    時間: 2024-12-5 09:00
真心希望有機會能與您深入交流，再次感謝您的精彩分享！
作者: 扶我起來    時間: 2025-11-19 18:17
感謝詳細解釋，我現(xiàn)在完全明白了。



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