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• 金相分析：
  
  • 光源：采用可見光作為光源。
    
  • 成像原理：利用幾何光學原理，通過光學顯微鏡觀察樣品表面的反射光或透射光，形成圖像。
    
    
• 電鏡分析（掃描電鏡，SEM）：
  
  • 光源：采用高能電子束作為光源。
    
  • 成像原理：利用電子束轟擊樣品表面，激發(fā)出二次電子、背散射電子等信號，通過探測器接收這些信號并轉換成圖像。
    
    
  
  

• 金相分析：
  
  • 分辨率受限于光的衍射，通常在0.2-0.5微米之間，屬于微米級分析。
    
    
• 電鏡分析：
  
  • 分辨率可達到1-3納米，屬于納米級分析，能夠觀察更細微的結構。
    
    
  
  

• 金相分析：
  
  • 景深較淺，通常在2-3微米之間，對樣品表面的平整度要求較高，制樣過程相對復雜。
    
    
• 電鏡分析：
  
  • 景深較大，視野更廣，成像富有立體感，可以直接觀察凹凸不平的表面結構。
    
    
  
  

• 金相分析：
  
  • 主要用于觀察金屬材料的微觀組織結構，如晶粒大小、相分布、夾雜物等。
    
  • 適用于材料的宏觀和微觀組織分析、質量控制和失效分析。
    
    
• 電鏡分析：
  
  • 不僅可以觀察樣品表面的微觀形貌，還可以通過能譜分析儀（EDS）進行元素的定性和定量分析。
    
  • 廣泛應用于材料科學、生物學、醫(yī)學、地質學等多個領域。
    
    
  
  

• 金相分析：
  
  • 圖像為彩色或黑白，能夠直觀顯示材料的組織結構。
    
    
• 電鏡分析：
  
  • 圖像通常為黑白，但可以通過不同的信號處理技術增強對比度。
    
    
  
  

• 金相分析：
  
  • 樣品需要經(jīng)過切割、鑲嵌、研磨、拋光等步驟，制樣過程較為復雜。
    
    
• 電鏡分析：
  
  • 樣品制備相對簡單，但需要導電性良好，非導電樣品需要進行鍍膜處理。