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標(biāo)題: 離子濺射儀原理 [打印本頁(yè)]
作者: sgqt    時(shí)間: 2024-9-4 09:09
標(biāo)題: 離子濺射儀原理
離子濺射儀的原理是通過(guò)在低真空環(huán)境中利用高能粒子轟擊固體靶材料，使靶材料的原子或分子從表面脫離并沉積到樣品上，形成薄膜或涂層。  
離子濺射儀是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子工程和表面處理等領(lǐng)域的設(shè)備。其核心原理建立在輝光放電現(xiàn)象之上，通過(guò)電場(chǎng)加速正離子轟擊靶材（陰極），導(dǎo)致靶材上的原子或分子被彈出并在樣品表面形成均勻的薄膜。這一過(guò)程涉及復(fù)雜的物理相互作用，包括動(dòng)能傳遞、動(dòng)量交換以及能量和物質(zhì)的傳輸?shù)取?br />
作者: 41℃的天    時(shí)間: 2024-9-4 09:11
那怎么能操作好這個(gè)儀器？
作者: mthl11    時(shí)間: 2024-9-4 09:14
離子濺射儀 這是個(gè)好東西
作者: 翻斗花園    時(shí)間: 2024-9-14 16:55
坐等更新，這個(gè)問(wèn)題很重要。



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