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等離子清洗的缺點是什么呢?

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  • TA的每日心情
    擦汗
    2024-7-29 17:58
  • 簽到天數(shù): 1 天

    [LV.1]初來乍到

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    發(fā)表于 2024-7-29 18:55:37 | 只看該作者 |倒序瀏覽 |閱讀模式
    等離子清洗的優(yōu)點有很多,那么,等離子清洗的缺點是什么呢?
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  • TA的每日心情
    開心
    2024-9-29 15:01
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    [LV.2]偶爾看看I

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    沙發(fā)
    發(fā)表于 2024-8-30 17:36:53 | 只看該作者
    等離子清洗的缺點主要包括以下幾個方面:

    操作條件復雜:等離子清洗的效果受操作條件影響顯著,條件的變化可能導致清洗效果大相徑庭,因此需要精確控制工藝參數(shù)。
    工藝復雜,易損傷材料:在半導體等精密器件的清洗過程中,如果控制不當,可能會損傷焊盤表面甚至晶片。
    易生成二次污染:特別是氧氣等離子清洗,清洗后的器件容易生成新的氧化物,成為二次污染源。
    穿透能力有限:等離子清洗每秒只能穿透幾個納米的厚度,因此污染層不能太厚,否則清洗效果不佳。
    時效性:等離子清洗的效果具有時效性,處理后的產品需盡快進行下一步工序,以避免效果減弱。
    設備成本高:等離子清洗設備多為定制型,價格較高,且需要一定的技術支持和維護成本。
    清洗難度和范圍限制:雖然清洗效果細致,但主要適用于細微污漬的清洗,對于大塊油污等類型的污漬效果有限。
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    發(fā)表于 2024-9-3 16:50:58 | 只看該作者
    我也用過類似的設備,感覺確實如此。
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  • TA的每日心情
    慵懶
    2024-8-30 15:58
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    發(fā)表于 2024-9-3 17:21:06 | 只看該作者
    樓上,太棒了,長知識了,謝謝!
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