實(shí)驗(yàn)室鍍膜機(jī)的主要用途

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　　實(shí)驗(yàn)室鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。
　　設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。
　　該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì)，操控方便；結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。
　　實(shí)驗(yàn)室鍍膜機(jī)的主要用途：
　　1、開發(fā)納米級(jí)單層、多層及復(fù)合膜層等。
　　2、制備金屬膜、合金膜、半導(dǎo)體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等，例：銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
　　3、兩靶單獨(dú)濺射、依次濺射、共同濺射。
　　應(yīng)用領(lǐng)域：
　　1、高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開發(fā)新產(chǎn)品等。
　　2、鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV太陽能電池等行業(yè)。

被封印的左腕

鍍膜技術(shù)作為一種重要的表面處理技術(shù)，鍍膜設(shè)備也毫不含糊

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