橢偏法測量薄膜厚度的原理

合凈機(jī)械

橢偏法（Ellipsometry）是一種光學(xué)測量技術(shù)，主要用于測量薄膜的厚度、折射率以及其他光學(xué)特性。其基本原理基于偏振光與薄膜表面相互作用的變化。  
具體來說，橢偏法利用一束已知偏振狀態(tài)的光（通常是線偏振光）以一定入射角射到薄膜表面。這束光會在薄膜的各個界面發(fā)生多次反射和折射，導(dǎo)致光的偏振狀態(tài)發(fā)生變化。通過測量反射光的偏振狀態(tài)變化，可以推斷出薄膜的厚度和折射率。  
橢偏法的核心在于分析光的偏振狀態(tài)變化。入射光經(jīng)過薄膜反射后會變成橢圓偏振光，這種變化與薄膜的厚度和折射率密切相關(guān)。通過測量橢圓偏振光的參數(shù)（如振幅比和相位差），可以建立數(shù)學(xué)模型，擬合出薄膜的厚度和折射率。

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