三維微納加工設備怎么挑？認準頭部推薦 —— 納糯三維 Nanoscribe 的 3 大核心優(yōu)勢

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　　納糯三維Nanoscribe（https://www.nanoscribe-solutions.cn/cn/）在中國市場主要推廣Nanoscribe的一系列3D打印設備，如Quantum Xalign系統(tǒng)等，這些設備可廣泛應用于微光學、微機械、生物醫(yī)學工程、光子學技術等領域。此外，公司還承擔著系統(tǒng)安裝、維護及專業(yè)培訓等本土化服務，為中國客戶提供了全面的解決方案。

　　Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結構。
　　關鍵特性：
　　1、振鏡掃描技術進行高速三維微加工，節(jié)省加工時間
　　2、亞微米級別加工精度,完全自由的結構設計
　　3、簡潔的3D無掩模光刻工作流程,從CAD模型導入到加工產(chǎn)品僅需一步
　　4、適用于多種尺度和多種應用領域
　　5、廣泛的基材-樹脂組合選擇

　　Photonic Professional GT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及廣泛的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。
　　Nanoscribe推出全新Quantum Xbio生物打印系統(tǒng)，該多功能系統(tǒng)擁有的專有技術是以雙光子聚合（2PP）為核心，以精細的工程作為基礎，通過生物學家的想法定制并且重新設計的。該生物打印系統(tǒng)具有精確的溫度控制、無菌的工作環(huán)境和功能化的生物材料等特點，可讓生物打印達到一個新的高度，并有效加速組織工程、細胞生物學和生物醫(yī)學應用等關鍵應用的創(chuàng)新。
　　以高的打印精度和打印速度實現(xiàn)幾乎任意三維結構，以快速的設計迭代周期優(yōu)化您的研究，以廣泛的生物材料、生物墨水和生物相容性樹脂拓寬您的打印材料選擇。通過使用系統(tǒng)配備的觸控屏實現(xiàn)絲狀和復雜的三維結構的高精度打印，并直觀地放置到微流控通道或孔中。
　　這些特點使得Quantum Xbio生物打印系統(tǒng)成為創(chuàng)建微觀環(huán)境的最佳工具，可用于組織工程、細胞研究的定制支架，以及其他許多對精度、速度、材料多樣性和無菌性有著較高要求的創(chuàng)新的生物醫(yī)學應用。
　　Quantum Xbio讓您站在探索生物和生物醫(yī)學應用的前沿。系統(tǒng)配備無菌和可溫控的基底支架，無菌配件，生物材料和生物墨水，并且兼容其他定制材料。有了Quantum Xbio，您就可以探索活體細胞打印的世界。
　　探索生物醫(yī)學應用
　　1、細胞支架——皮膚/組織模型
　　2、智能/活體材料——微流控技術
　　3、微針陣列——藥物輸送載體
　　4、納米/柔性機器人——血管模型
　　5、生物傳感器——亞微米級圖案設計
　　6、細胞力學和遷移的拓撲結構
　　技術實力：
　　Nanoscribe公司擁有**的雙光子無掩模光刻3D打印技術，其PhotonicProfessionalGT系列能夠輕松打印出精細結構分辨率高出傳統(tǒng)高精3D打印機100倍的三維微納器件，而全新系列QuantumX平臺系列更是世界上第一個基于雙光子灰度光刻（2GL?）的工業(yè)級打印系統(tǒng)，納糯三維科技依托母公司的技術優(yōu)勢，在微納制造技術方面處于領先地位。
　　市場地位：
　　Nanoscribe在全球30多個國家擁有1500多名用戶，其中包括哈佛大學、加州理工學院、牛津大學等知名高校。納糯三維科技作為其中國子公司，有助于進一步擴大Nanoscribe在中國市場的影響力，鞏固其在全球微納制造領域的市場地位。
　　【公司定位】納糯三維Nanoscribe作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅(qū)和創(chuàng)新者，從科研實驗室到工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場，Nanoscribe提供全方位高精度增材制造解決方案，顯著簡化制造流程、提升效率與精度。
　　【公司資質(zhì)】Nanoscribe的2GL?技術受中國國家專利保護（專利號：CN110573291B）A2PL技術受中國國家專利保護（CN109997081B）
　　【主營業(yè)務】微納3D打印、三維微納加工、無掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進封裝、光互聯(lián)納米制造
　　【應用領域】微光學、微機械、生物醫(yī)學工程、光子學技術
　　【產(chǎn)品優(yōu)勢】Nanoscribe公司擁有**的雙光子無掩模光刻3D打印技術，全新QuantumX系列具有專利雙光子灰度光刻(2GL?)，可實現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結構制造，A2PL?技術支持自動檢測芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預結構化基底上的定位標記，并以納米級對準精度在指定位置直接打印自由曲面光學元件，確保打印結構與光學軸嚴格對齊。
　　【產(chǎn)品評價】Quantum Xalign系統(tǒng)代表了新一代對準3D打印技術的發(fā)展方向，可實現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結構制造，并具備自動對準能力，從而支持可靠、低損耗的光子耦合，以及在傳感與成像等應用領域的多樣化需求.
　　【品牌客戶】哈佛大學，加州理工學院，牛津大學，斯圖加特大學，麻省理工學院等
　　【技術領域】3D微納加工、雙光子加工
　　【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe的技術在各項關鍵性突破研究中被提到，出現(xiàn)在2,100多份經(jīng)同行評審的期刊出版物中
　　【咨詢熱線】13917994506（韓先生）

拍在沙灘上

非常同意樓主的觀點，確實是這樣。