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臺(tái)階儀工作原理

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發(fā)表于 2024-10-14 13:08:00 | 只看該作者 |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
本帖最后由 煙火里的塵埃 于 2024-10-14 13:16 編輯

  臺(tái)階儀測(cè)薄膜厚度的原理主要基于光的干涉現(xiàn)象。以下是基本原理和工作流程:
  1. 原理
  當(dāng)光線照射到薄膜表面時(shí),會(huì)在薄膜的頂部和底部產(chǎn)生反射。兩束反射光之間會(huì)因?yàn)楣獬滩疃l(fā)生干涉,形成明暗相間的干涉條紋。
  2. 測(cè)量步驟
  1. 光源發(fā)射:臺(tái)階儀內(nèi)置的光源(通常是激光)發(fā)出單色光,照射到薄膜上。
  2. 反射光的干涉:
  光線在薄膜的上表面和下表面反射,形成兩條反射光路徑。
  這兩條光的相位差決定了干涉條紋的形成。
  3. 計(jì)算光程差:通過(guò)分析干涉條紋,可以得到光程差。
  4. 數(shù)據(jù)處理:測(cè)得的干涉條紋信息可以通過(guò)計(jì)算機(jī)進(jìn)行分析,從而精確計(jì)算出薄膜的厚度。
  3. 優(yōu)勢(shì)
  高精度:能夠測(cè)量微米級(jí)甚至納米級(jí)的薄膜厚度。
  非接觸測(cè)量:避免對(duì)薄膜造成任何物理?yè)p傷,適合脆弱材料。
  4. 應(yīng)用
  臺(tái)階儀廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)、光電器件、涂層技術(shù)等領(lǐng)域,用于質(zhì)量控制和研發(fā)。
  通過(guò)上述原理和步驟,臺(tái)階儀可以有效地測(cè)量薄膜的厚度,為相關(guān)領(lǐng)域提供重要的數(shù)據(jù)支持。

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發(fā)表于 2024-10-14 14:23:23 | 只看該作者
當(dāng)光線照射到薄膜表面時(shí),會(huì)在薄膜的頂部和底部產(chǎn)生反射。兩束反射光之間會(huì)因?yàn)楣獬滩疃l(fā)生干涉,形成明暗相間的干涉條紋。
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發(fā)表于 2024-10-23 20:09:46 | 只看該作者
這個(gè)問(wèn)題很有代表性,很多人都關(guān)心。
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